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特許制度は、産業の発展に寄与する発明をした者（又はその承継人）に対し、その発明の公開の代償として、一定期間、その発明を独占的に実施できる特許権を国が付与する制度をいいます。発明とは、「自然法則を利用した技術的思想の創作のうち高度のもの」（特許法第2条）と規定されています。

一方、実用新案制度も、「自然法則を利用した技術的思想の創作」（実用新案法第2条）である考案を保護するとしており、本質的には同じものですが、保護の対象が「物品の形状、構造又は組合せに係る考案」（実用新案法第3条）とされています。

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実用新案制度では、出願された実体的内容の審査は行われず、一定の基礎的要件を具備するものに対して登録されます。小発明ともいわれる考案を特許制度よりも早期に簡易に保護できる制度となっています。

意匠制度は、デザイン（意匠）を新しく創作した創作者（又はその承継人）に対し、独占排他的な意匠権を一定期間付与する制度をいいます。意匠とは「物品の形状、模様若しくは色彩又はこれらの結合であって、視覚を通じて美感を起こさせるもの」（意匠法第2条）のことをいいます。また、令和2年4月1日より法律が改正され、建築物の外観や内装といった建築物の形状等やデジタル機器で用いられる表示画像といった画像が「意匠」として保護できるようになりました。

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商標制度は、事業者が、自己（自社）の取り扱う商品・サービス（役務）を他人（他社）のものと区別するために使用する目印（識別標識）、即ち、商標に対して、独占排他的な商標権を付与する制度です。新規なアイデアなどを保護する特許権、実用新案権、意匠権と異なり、商品やサービスに付ける「マーク」や「ネーミング」を選択し使用することで、商標に蓄積した使用者の信用や信頼を、商標権として守ることを目的としています。

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商標制度における特徴として更新制度が存在することがあげられます。商標登録を更新することで半永久的に権利の存続を図ることができ、商標を通じたブランド・ビジネスの保護を図ることができます。

外国において知的財産権の保護を受けるためには、それぞれの国でそれぞれの制度に従って手続を執る必要があります。たとえ日本で特許権を取得したとしても、その効力は日本国内で及ぶのみであり、アメリカであればアメリカに、中国であれば中国に特許出願をして、それぞれ登録を受ける必要があります。

以上のように、これらの外国出願をする場合、最終的には保護を図りたい国の数だけ手続を執る必要がありますが、出願に際して、特許であれば特許協力条約（PCT）、意匠であればハーグ協定、商標であればマドリッドプロトコルといった、手続を簡易にする方法が国際条約で取り決められていますので、それらの制度を利用することもできます。